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    赤崎教授,选择了晶体结构和gan接近,但是晶格常数失配的蓝宝石作为衬底材料,进行gan的异质外延(生长)。

    由于晶格失配,gan外延层和蓝宝石衬底之间存在失配应力,应力的释放会导致gan内部产生大量缺陷。这样的材料无法应用于器件。

    但这个问题,在1985年,被赤崎教授的弟子,天野浩解决,这就是著名的两步法。

    步骤是,在蓝宝石衬底上先生长一层aln缓冲层,再将温度升高生长gan。

    由于缓冲层释放了gan和蓝宝石之间的失配应力,这种“两步法”生长技术使得gan的晶体质量显著改善,满足了器件制作的基本要求。

    这个方法的发现,差不多历时前后5年,师生两个人接力,才算搞定。

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    按理说,一般的科学研究工作者,进行某项研究的思路,都是踏着前人留下的足迹前进。尤其是没有达到终点之前。

    因为改变前人,甚至推翻前人的工作,完全是得不偿失。

    例如两步法的发现,就用时差不多四五年时间。换个人来研究,是不是也要准备个几年时间?

    这怎么选择,不是一目了然嘛!

    但大侠就是大侠,中村拿到这个论文后,不是继续往下研究,而是放飞自我。

    他决定试试在缓冲层中采用gan而非aln的方法。

    具体思路是在低温生长的非结晶状态的gan膜之上,在高温条件下生长出gan单晶膜。只要这个取得成功,就可以制出与在底板上直接生长单晶gan膜相同的构造。

    按照这个思路,中村进行了尝试。

    结果嘛,一次成功!

    这种方法的核心,是采用了低温gan缓冲层(500c左右)替代了aln缓冲层。这一基于低温gan缓冲层的“两步法”工艺,成为日后工业界生长gan基led的标准工艺。

    当然了,做出这步改良的理由,也是异常奇怪。中村给出的解释居然是,别人用过的方法,我不用!

    这种“二”的说话方式,成永兴也用过!

    不就是强词夺理嘛!

    谁不会啊!

    你有种!